近期，中國科學院上海光學精密機械研究所高端光電裝備部研究團隊在干涉儀測試的波前校準方法研究方面取得進展。相關研究成果以“High precision wavefront correction method ininterferometer testing”為題發(fā)表于Optics Express。

高精度光學元件已經(jīng)充分應用于激光技術、光學通信、醫(yī)學影像、天文學和空間探測、半導體制造和科學研究等領域。使用干涉儀是目前高精度光學檢測的主要方法。為了得到測試元件真實的面形誤差，須采用波前校準方法對干涉儀測試波前誤差進行校準。然而，目前沒有針對光學加工過程中的波前校準的完整方法。

本項工作中，研究團隊針對斐索干涉儀測試中波前誤差與實際表面誤差之間的差異，提出了一種新的高精度光學表面波前校正方法。主要內(nèi)容包括光學表面函數(shù)參數(shù)擬合、橫向失真校正、錯位誤差消除和凹陷表面誤差計算。并從函數(shù)參數(shù)擬合、射線追蹤、插值等方面對該方法的誤差進行了深入分析。零位測試配置中離軸拋物面鏡的波前校準證明了該方法的有效性。結果顯示，實驗產(chǎn)生的環(huán)形誤差顯著減小，離軸方向誤差從0.23λ提高到0.05λ（λ=632.8nm），非球面偏離的PV超過8.5mm。該研究在高精度光學元件檢測過程中有重要意義。

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圖.1 環(huán)帶誤差產(chǎn)生

圖.2 環(huán)帶誤差修復結果