超強(qiáng)激光科學(xué)卓越創(chuàng)新簡報(bào)

(第五十六期)

2019年11月3日

　　10月18日，由集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟和中國光學(xué)學(xué)會(huì)主辦，中國科學(xué)院微電子研究所、南京市浦口高新區(qū)和南京市浦口區(qū)科學(xué)技術(shù)局承辦的第三屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)在南京市成功舉辦。 

　　大會(huì)主席、集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟理事長、科技部原副部長曹健林，國家科技重大專項(xiàng)電子信息領(lǐng)域監(jiān)督評(píng)估組組長、國家外國專家局原局長馬俊如，大會(huì)副主席、中國科學(xué)院微電子研究所所長、國家02科技重大專項(xiàng)技術(shù)總師葉甜春等分別致辭。大會(huì)秘書長、中科院微電子研究所計(jì)算光刻研發(fā)中心主任韋亞一研究員主持開幕式。來自中國、美國、德國、日本等世界各地眾多名企、廠商、科研機(jī)構(gòu)、高校的共計(jì)400余名技術(shù)專家和學(xué)者參加了本屆大會(huì)。 

　　我所王向朝研究員帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)參加了會(huì)議并擔(dān)任國際咨詢委員會(huì)委員、大會(huì)session chair。上海光機(jī)所在本次會(huì)議上共發(fā)表5篇學(xué)術(shù)論文，其中，成維、李思坤*、王向朝*、張子男的論文"Profile reconstruction method for multilayer defect in Extreme Ultraviolet Lithography"獲得“最佳論文獎(jiǎng)”。 

　　國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)（www.iwaps.org）是國內(nèi)首個(gè)高端光刻技術(shù)研討會(huì)，已連續(xù)舉辦三屆。本屆大會(huì)延續(xù)了往屆的高規(guī)格和高水準(zhǔn)，已成為共享國內(nèi)外先進(jìn)光刻技術(shù)研發(fā)成果，促進(jìn)我國集成電路制造技術(shù)研發(fā)與應(yīng)用，開展合作與交流的高端峰會(huì)。報(bào)告內(nèi)容總結(jié)等更多會(huì)議情況請(qǐng)參閱“光刻人的世界”微信公眾號(hào)：https://mp.weixin.qq.com/s/35-U-HNUWz_q33-zokOXew以及會(huì)議官方網(wǎng)站.（信息光學(xué)與光電技術(shù)實(shí)驗(yàn)室供稿） 

上海光機(jī)所參會(huì)人員合影

頒獎(jiǎng)現(xiàn)場